ISSP2007: シンポジウムの概要と参加のご案内

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今回で9回目を迎える 「ISSP2007(The 9th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes)」 はスパッタリングあるいはプラズマプロセスをキーワードとして 異分野・異業種の国内外の技術者・研究者が一堂に会し, 議論と情報交換を行う特色のある学会です. 今回の会議でも,関連素材・装置・デバイスに関する最先端の技術の発表や, 活発な議論・情報交流が期待されます. さらに今回は技術横断的なトピックスセッションとして 「Manufactureing Science and Technologies」を新設いたしました. これはISSPの原点である生産技術としてのスパッタリングおよび プラズマプロセス技術に立ち返り, 生産技術を多角的な見地から再度捉えなおし議論を深めることで, 今後の新展開,新用途等の可能性を探り, ひいては将来のスパッタリングおよびプラズマプロセス技術の さらなる発展の出発点となることが期待されるセッションです. この新設セッションは,プログラム中日に終日行われる予定です.

開催日時: 平成19年(2007年)6月6日(水)〜6月8日(金)
会場: 金沢国際ホテル(石川県金沢市)
主催: 日本真空協会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会

シンポジウム概要

参加登録のご案内

参加登録費

  5月11日まで 5月11日以降
および当日
日本真空協会・スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会会員 ¥35,000 ¥40,000
日本真空協会会員 ¥40,000 ¥45,000
協賛学会会員 ¥47,000 ¥52,000
学生 ¥20,000 ¥20,000
一般 ¥50,000 ¥55,000

*参加登録費にはシンポジウムプロシーディングス1冊を含みます.

参加登録方法

宿泊のご案内

金沢市内に特別価格にてお部屋をご用意しております. Accommodation ページ から宿泊申込書をダウンロードして, 所定事項をご記入の上,各ホテルに直接お申し込み下さい.

問い合わせ先

ISSP事務局 草野 英二・堀 則子
金沢工業大学・高度材料科学研究開発センター
TEL 076-274-9250, FAX 076-274-9251, E-mail: sec@issp2007.org

謝辞

本会議に対し、以下の団体より資金援助をいただきました。ここに感謝致します。


Contact to: ISSP2007 secretariat (Contact Information)