ISSP2011: 商品パネル展示

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日本真空協会では2011年7月6日から8日の3日間、 京都リサーチパークKRPにおいて第11回スパッタリング&プラズマプロセス国際会議 (ISSP2011)を開催いたします。 スパッタリング&プラズマプロセス技術は今や広範な工業技術分野と密接に関わる重要な技術となっています。 この会議はスパッタリング及びプラズマプロセスに関わる各国の企業・大学の研究者・技術者が多数出席する特色のある学会です。 今回の会議でも、関連素材・装置・デバイスに関する最先端の技術の発表や、 活発な議論・情報交流が期待されます。 この会議ではポスターによる研究発表に併設して、 各企業の商品パネル展示コーナー を設置いたします。 ちなみに、前回のISSP2009では約300人が参加し、 15社のパネル展示が行われました。 このコーナーは、関連企業各位の優れた技術・製品・サービスに関する情報を、 さまざまな分野の研究者・技術者に提供するための格好の場と思われます。 つきましては、 ISSP2011商品パネル展示コーナーに是非ご出展いただきますようお願い申し上げます。

なお、同時に国際会議の一般発表も行っていただければ、宣伝効果が格段に上がるものと思われます。 是非、併せてご検討くださるようお願いいたします。 (その際は講演者として別にお申し込み下さい。)

ISSPのパネル展示は、招待メーカーによる Manufacturer's Presentation とは異なりますのでご注意下さい。

ISSP2011 出展企業様

アステック株式会社 ペガサスソフトウェア株式会社
アステック株式会社 ペガサスソフトウェア株式会社
 
CSM Instruments SA 株式会社 昭和真空
CSM Instruments SA
 
株式会社エイコー/株式会社エイコーエンジニアリング 株式会社サーモ理工
株式会社エイコー/株式会社エイコーエンジニアリング 株式会社サーモ理工
 
株式会社 エフ・ティ・エスコーポレーション 株式会社テックサイエンス
株式会社テックサイエンス
 
ヘンミ計算尺株式会社 アルバック・クライオ株式会社
ヘンミ計算尺株式会社 アルバック・クライオ株式会社
 
ヒュティンガ・ジャパン株式会社 アルバックテクノ株式会社
ヒュティンガ・ジャパン株式会社 アルバックテクノ株式会社
 
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社 株式会社アルバック
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社 株式会社アルバック
 
JX日鉱日石金属株式会社 VON ARDENNE, Germany
JX日鉱日石金属株式会社 VON ARDENNE, Germany
 
北野精機株式会社 株式会社 ウェーブフロント
北野精機株式会社 株式会社 ウェーブフロント

商品パネル展示コーナー募集要項

募集分野

  • 各種プロセス装置 (スパッタ / 蒸着 / MBE / CVD / エッチングなど)
  • 各種分析計測装置
  • 各種関連部品 (スパッタターゲットなど)

開催場所・期間

  • 京都リサーチパーク
  • 展示会は 2011 年 7 月 6 日 17:00 開始、8 日 17:00 終了予定 (変更の可能性あり)
  • (会議は 6 日 10:00 から 8 日 17:00 までの予定)

展示参加料金

  • 12万円 (一単位あたり)
  • 内訳:出展費10万円、説明員一名分参加費2万円 (説明員なしの出展はできません)

出展社特典

締切・申込方法

締切: 2011 年 5 月 16 日

  • 申し込み用紙 (Microsoft Word 文書) に御記入の上、申し込み用紙記載の宛先までEmailでご送付ください。
  • 展示企業様ホームページへのリンクを希望される場合、 バナー表示用の画像データも添付してください。
  • 会議録広告掲載を希望される企業様は A4 一頁に印刷した紙原稿、 あるいは PDF ファイルを、上記期日までに、ISSP 事務局 (末尾参照) までお送りください。

展示方式の概要

展示の詳細規定

desk

(1) パネル

(2) 机

※これ以外の展示方法をご希望の方は御相談下さい。

問い合わせ先・申し込み先

ご不明な点は ISSP 事務局までお問い合わせください。

  • ISSP 事務局
  • 金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター
  • 〒924-0838
  • 石川県白山市八束穂3-1
  • TEL: 076-274-9250 FAX: 076-274-9251
  • E-mail: exhibit@issp2011.org

過去の展示会出展社 (順不同)

  • BOC Coating Technology
  • Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl-und Plasmatechnik
  • Gencoa Ltd.
  • Kurt J. Lesker Company
  • NOA SYSTEMS Inc.
  • NTTアフティ(株)
  • Singulus Technologies AG
  • Sputtered Films, Inc.
  • (有)VICインターナショナル
  • Von Ardenne, Germany
  • (株)アイメック
  • アステック(株)
  • アドバンスト・エナジー・ジャパン(株)
  • (株)アルバック
  • アルバック・クライオ(株)
  • アルバック・ファイ
  • アルバック・テクノ
  • (株)エフティーエスコーポレーション
  • オックスフォード・インストゥルメンツ(株)
  • オミクロンナノテクノロジー
  • キヤノンアネルバ(株)
  • サーモ理工
  • サイエンステクノロジー(株)
  • サエス・ゲッターズ・ジャパン(株)
  • サーフテックトランスナショナル
  • サンユー電子(株)
  • (株)ジャパンエナジー
  • (株)昭和真空
  • (株)シンクロン
  • (株)ティーディーワイ
  • ナノサイエンス株式会社
  • JX日鉱日石金属(株)
  • 日真精機(株)
  • 日本エムケーエス(株)
  • 日本エリコン株式会社
  • 日本エリコンライボルト株式会社
  • 日本電子(株)
  • 日立造船(株)
  • 日本ビーコ(株)
  • 伯東(株)
  • ヒュティンガ・ジャパン(株)
  • (株)フジキン
  • ペガサスソフトウェア(株)
  • (株)マツボー
  • 丸文(株)
  • メープル
  • 三菱マテリアル(株)
  • (株)ユニバーサル・システムズ
  • リガク
  • (株)ランドマークテクノロジー

Contact to: ISSP2011 secretariat (Contact Information)